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龍圖光罩擬募資不超14.6億元 布局40nm—28nm半導體掩模版產能
來源:證券時報網作者:李勁2026-03-23 23:54

龍圖光罩(688721)3月23日晚間公告,公司擬向特定對象發(fā)行股票募資不超過14.6億元,扣除發(fā)行費用后用于40nm—28nm半導體掩模版生產線建設項目。“項目實施后,公司預計能夠填補我國40nm—28nm制程節(jié)點半導體掩模版的市場空白,技術實力將進一步提升,產品研發(fā)速度進一步加快,研發(fā)成果轉換率進一步提高?!饼垐D光罩表示,項目的實施與落地,將顯著提升公司的技術實力與經營規(guī)模,公司綜合實力將得到大幅增強。

在龍圖光罩看來,40nm—28nm制程產品的布局不僅是公司前次募投項目的擴建與延續(xù),更是公司保持行業(yè)地位、鞏固市場競爭力的必經之路。“目前公司已實現(xiàn)90nm制程節(jié)點產品的量產出貨,65nm產品也已開始送樣驗證?!饼垐D光罩表示,隨著中國大陸半導體產業(yè)的快速發(fā)展,晶圓制造制程節(jié)點不斷提升,公司需要提前布局更高制程節(jié)點產品才能保持自身技術進步與產品領先,才能滿足境內晶圓制造廠商的日益增長的光罩需求。

龍圖光罩表示,28nm制程能力是當前衡量我國掩模版企業(yè)技術實力的核心標桿。從行業(yè)格局看,第三方掩模版市場普遍以28nm為重要分界線:一方面,在28nm以下的先進制程領域,由于境外掩模版廠商具有先發(fā)優(yōu)勢和產業(yè)鏈集群優(yōu)勢,同時中國大陸半導體行業(yè)受貿易制裁、出口管制等多因素影響,當前國內能夠自主量產28nm以下制程掩模版的企業(yè)數(shù)量極少;另一方面,能夠突破28nm制程技術壁壘,是當前我國第三方掩模版企業(yè)構建差異化競爭優(yōu)勢、鞏固市場地位的關鍵路徑,亦是其持續(xù)保持技術引領力的必然要求。

從市場競爭格局看,目前130nm以上掩模版產品已經進入國產替代后期,競爭開始顯現(xiàn),相關市場規(guī)模難以繼續(xù)保持快速增長;130nm—65nm掩模版產品則處于國產替代快速推進階段,下游客戶相對集中,境內光罩廠商處于送樣驗證或批量供貨狀態(tài);40nm—28nm則處于國產替代初期,國內光罩廠尚處于布局階段,因該制程區(qū)間對晶圓廠的投資強度和技術能力要求極高,因此客戶高度集中。

龍圖光罩直言,若公司未能及時跟進40nm—28nm制程的產能布局與技術落地,將面臨市場競爭格局重塑中的被動局面:不僅可能錯失境內40nm—28nm制程掩模版市場的國產替代增量機遇,亦可能因技術迭代滯后導致現(xiàn)有客戶合作關系的潛在流失。

龍圖光罩表示,國內40nm—28nm制程節(jié)點擴產的主要晶圓廠中,華虹半導體、士蘭微、燕東微、粵芯半導體、積塔半導體等是公司現(xiàn)有核心客戶,且華虹半導體、士蘭微、燕東微等為公司戰(zhàn)略股東,已形成了多年的戰(zhàn)略合作關系。公司現(xiàn)有客戶未來將存在大量的40nm—28nm制程掩模版需求,公司良好的客戶關系有助于公司快速完成客戶送樣驗證工作,預計項目投產后可以順利消化相關產能。

掩模版廠商向下游客戶銷售掩模版時,通常是成套出售,其中一套掩模版中的制程節(jié)點各不相同,僅有少數(shù)的關鍵層會使用最高的制程,其余非關鍵層出于成本考量,通常使用相對較低的制程。因此,公司本次募投項目擴展40nm—28nm更高制程節(jié)點后,未來新增40nm—28nm制程產品的訂單,同樣會帶來現(xiàn)有65nm以上制程產品的需求。

責任編輯: 臧曉松
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